推动显示屏造作中使用气体的重要成分蕴含PECVD（等离子体加强化学气相沉积）
，占ESG亏损的75％
，而干法蚀刻则推动了氦气的使用
。LTPS和MO晶体管的出产推动了氧化亚氮的使用
。ESG在MO晶体管出产中的使用情况与图4所示分歧：氧化亚氮占气体亏损的63％
，三氟化氮占26％
，硅烷占7％
，六氟化硫和氨一共约占4％
。激光气体不仅用于光刻
，也用于LTPS中准分子激光退火利用
。

硅烷：SiH4是显示屏造作中关键的气体之一
，与氨气（NH3）结合使用
，形成用于a-Si晶体管的氮化硅层
，与氮气（N2）结合使用
，形成用于LTPS晶体管的预准分子激光退火a-Si
，或与氧化亚氮（N2O）结合使用形成MO晶体管的氧化硅层
。

三氟化氮：从a-Si和LTPS显示屏出产中的亏损和使用量来看
，NF3是a-Si和LTPS显示屏出产中使用多的单种电子资料
，而在MO出产中
，其使用量不如N2O
。NF3用于清洁PECVD腔室
。对于这衷禅体
，必要具备可扩大性
，能力在竞争强烈的市场中成立所需的成本优势
。

氧化亚氮：LTPS和MO显示屏出产中均使用
，从MO出产中的亏损和使用量来看
，N2O已超过NF3成为MO出产中用量多的电子资料
。N2O是一种区域性、本地化的产品
，由于其成本低
，无法选取物流成本高昂的长供给链
。均匀每5.5平方米素玻璃沉约2公斤
，每月通常必要240吨N2O能力出产120K的8.5 MO显示屏
。N2O压缩气体拖车每次只能提供6吨N2O
，对于MO出产来说
，这种做法成本高
，风险大
。

氮气：通常的大型显示屏厂氮气需要可高达50,000 Nm3/幼时
，因而现场产生器（如林德 SPECTRA-N?50,000）是一种拥有成本效益的解决规划
，与传统的氮气工厂相比
，显示屏造作中的CO2（二氧化碳）排放削减8％
。

氦气：氦气用于流程中和流程后冷却玻璃
。由于氦气是一种不再生气体
，鉴于其成本和可得性
，造作商在钻研削减氦气的使用
。